微流控芯片最初起源于分析化學領域, 是一種采用精細加工技術, 在數平方厘米的基片上制作出微腔體和微管道網絡結構及其它功能單元, 以實現集微量樣品制備、進樣、反應、分離及檢測于一體的快速、高效、低耗的微型分析實驗裝置. 隨著微電子及微機械制作技術的不斷進步, 近年來微流控芯片技術發展迅猛, 并開始在化學、生命科學及醫學器件等領域發揮重要作用。那么，加工微流控芯片需要哪些設備呢？

一、光刻機

主要制作硅片材質的微流控芯片。一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程微通道結構臨時“復制”到硅片上的過程。

二、注塑設備

PDMS芯片以其透氣、質地柔軟、管道光滑和加工周期短等特性，成為諸多生化檢測領域產業化芯片的最佳材質。可利用硅片模具、玻璃模具、金屬模具或塑料模具進行PDMS芯片的注塑成型加工。

三、數控CNC設備

能夠加工高精度的聚合物材質芯片產品（PMMA，PC，ABS，TEFLON等工程塑料）和金屬材質（鋁、鎳和不銹鋼等），通道寬度最小極限為150μm，深度極限視加工特征定性，最大加工范圍為400*400*260cm，配合高精度檢測設備，控制產品尺寸精準，表面粗糙度微小，能夠滿足要求較高的實驗需求。

四、烘膠設備

主要用于光刻工藝中的前烘和堅膜。

五、勻膠設備

主要用于光刻勻膠工序，在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上。