從最早被用于電路制造，光刻技術的發展已經走過了半個多世紀。在過去的半個多世紀中，除了光刻設備、材料和工藝的不斷發展以外，光刻工程技術人員工作的職責和方式也在不斷演化。首先是光刻機越來越復雜和昂貴，僅靠Fab的光刻工程師，已經不能完全運行和維護光刻設備并充分發揮其產能，Fab離不開光刻設備供應商對光刻機使用的支持。這種技術支持超過了傳統的使用培訓、故障維修、而是深入參與到光刻工藝研發中，為工藝中的難點提供解決方案。

    光刻材料也已經不再局限于光刻膠，而是包括抗反射層、含Si的抗反射層、旋涂的有機碳等眾多新型材料。這些新型材料在使用過程中很容易出現各種問題，例如，旋涂后產生較多的顆粒和缺陷，何種過濾器最有效。這些問題的解決都必須有材料供應商的參與。在測量方面，電子顯微鏡一直被用于光刻膠上關鍵線寬的測量。高能量的電子束會損傷光刻膠，使光刻膠線條收縮，一般會導致4~5nm的測量偏差。這一偏差在32nm技術節點以下是不能接受的。如何改進測量程序、修正這種測量偏差也不是晶圓廠計量工程師（metrology engineer）獨自能完成的，需要測量設備生產商專業技術人員的參與。

晶圓廠光刻內部的分工以及各單位之間的交叉和牽制

    Fab的光刻部門分為研發（technologydevelopment,TD）和生產（manufacturing）。這里側重討論光刻研發部門。Fab光刻研發部門內部一般分為若干個工作小組，這是按工作任務來劃分的。下表是晶圓廠光刻研發部門內部的組織機構。對于光刻生產部門，其主要精力是維持生產，其組織結構和下表略有不同。

光刻是一個工藝單元，其工作的重心是支持工藝集成，為工藝集成提供圖形解決方案（patterning solutions），爭取及早實現器件的產額（Yield）。根據支持工藝集成的直接和間接程度，光刻部門內的工作分為一、二、三線，第一線的部門以工藝組為主，也包括掩模管理組和測量組。工藝組中的工程師就是所謂的“layer owner”，即每人負責幾個光刻層，一般是工藝技術類似的幾個光刻層。“layer owner”協調內部資源、負責光刻工藝的設置、支持工藝集成。掩模管理和工藝集成的交集也很多，因為一個工藝流程中需要多少層掩模版、每一層掩模什么時候需要都是由工藝集成工程師掌握的。測量組也需要時常直接支持工藝集成，因為在工藝流程中測量是作為獨立的步驟存在的。二線部門的主要任務是為一線部門提供設備、材料和數據系統使用方面的支持。

在日常工作中，工藝工程師通常可以解決大多數制程中出現的問題。存在一小部分問題需要比較深入的設備、材料、數據系統的支持，這時二線的工程師就必須參與，甚至通過二線工程師把設備或材料供應商的專業技術人員引入討論，三線是先導研發或者叫預研，為下一個技術節點尋找光刻的技術方向。

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