• 紫外光源：曝光系統最核心3 nm）和F2準分子激光（157 nm）等。 ?????? 曝光系統的功能主要有：平滑衍射效應、實現均勻照明、濾光和冷光處理、實現強光照明...2015-01-30 16:11:16
• 光刻膠的一般特性介紹resolution）是一個綜合指標。影響分辨能力的因素有3個方面：①曝光系統的分辨率；②光刻膠的相對分子質量、分子平均分布、對比度與膠厚；③顯影條...2024-07-10 09:14:55
• 微流控芯片一般光刻工藝過程來進行再吸水，從而達到更優的性能。4. 曝光曝光的完成是通過曝光掩模和曝光系統，如步進式（i-線的，g-線）掩模對準式或接觸式曝光系統在各自的光譜工...2024-07-04 09:13:40
• 微流控芯片制造工藝（下）1)優化鏡片(改變sinθ)在曝光波長縮短的同時，鏡頭設計的改進也導致曝光系統鏡頭的數值孔徑(NA)得到改善，見圖 。在八十年代中期，NA 值約為 ...2024-06-25 08:47:32
• 微流控芯片制造工藝（上）3 掩膜集成電路制造所用的掩膜通常是縮小倍數的掩膜。制作掩膜是用電子束曝光系統將圖形直接轉移到對電子束敏感的掩膜上。掩模由鍍鉻玻璃板組成。電路圖形首...2024-06-24 09:25:22
• 光刻機是光刻工藝的核心設備? ? ? ??光刻機(lithography)又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版...2022-11-22 08:50:23
• 光刻技術圖形轉移工藝二：光刻材料及設備影響光刻的質量。因此要有高的成品率，就必須制作出高質的光刻掩膜版。3.曝光系統曝光機?將光刻掩膜版與涂上光刻膠的晶圓片對準，用一定波長的紫外光經過光...2018-06-07 08:41:19
• 投影式光刻機 Projection Photoetching Machines般采用步進-掃描式曝光。光源并不是一次把整個掩模上的圖形投影在晶圓上，曝光系統通過一個狹縫式曝光帶（slit）照射在掩模上，如1（a）所示。載有掩模...2017-12-29 09:04:54
• 光刻膠成分及用途膠的分辨率是一個綜合指標，影響該指標的因素通常有如下3個方面：(1) 曝光系統的分辨率。(2) 光刻膠的對比度、膠厚、相對分子質量等。一般薄膠容易得...2017-10-31 17:26:19
• TSP Sheet Exposure System觸摸屏用Sheet曝光機是觸摸屏及LCD制造技術所需要的大面積曝光系統，是可實現微細線寬和高生產率的產品。Sheet曝光機產品的優秀性不僅能讓客戶的Needs得到滿足，而且在開發下一代觸摸屏方面，也發揮主導作用...2017-10-30 17:25:31