極端紫外線光刻機是一項技術奇跡。一臺發電機每秒噴射出50,000個微小的錫熔滴。高功率激光對每個液滴進行兩次爆炸。第一個可以塑造微小的錫，所以第二個可以將其蒸發成等離子體。等離子體發出極紫外線(EUV)輻射，聚焦成光束，通過一系列鏡子反彈。這些鏡子非常光滑，如果擴大到德國的大小，它們的凸起不會超過一毫米。最后，極紫外光射束擊中硅片，其精度相當于從地球上射出一支箭擊中放置在月球上的蘋果。這使得EUV機器可以將晶體管吸引到晶片中，其特征僅為5納米-大約相當于你的指甲在5秒內生長的長度。這種帶有數十億或數萬億個晶體管的晶片最終會被制成計算機芯片。

國產雙面紫外光刻機

一臺EUV機器由超過10萬個部件組成，成本約為1.2億美元，裝在40個貨運集裝箱中運輸。地球上只有幾十架這樣的設備，而且還訂單等待周期長達兩年。對這個價值1.2億美元的工具的需求遠遠超過供應，這似乎不太直觀，但只有一家公司可以生產這種工具。這是一家名為阿斯麥(ASML)的荷蘭公司，幾乎只生產用于芯片制造的光刻機。盡管如此，它的市場資本超過1500億美元——遠遠高于IBM，僅略低于特斯拉。

EUV光刻技術自20世紀80年代以來一直在發展，但直到最近兩年才進入量產。還有一些公司生產的是不使用EUV的老款光刻機，只能生產性價比較低的老款芯片。這些公司包括尼康和佳能等老牌公司。他們擁有經驗、專業知識和市場紀律。如果這些公司能制造EUV機器，他們將會賺上數十億美元。這也是為什么在經過30多年的研發和數十億美元的研發之后，阿斯麥仍然面臨著積壓訂單。

中國幾乎沒有光刻經驗或產業。任何試圖發展EUV光刻技術的中國公司都必須從零開始。它必須縮小與阿斯麥數十億美元的資金、數十年的經驗、以及其數萬名員工積累的經驗和隱性知識的差距。而且它必須在經驗豐富、價值數十億美元的公司失敗的地方取得成功。在可預見的未來，中國公司幾乎不可能制造EUV光刻機。

認識到EUV機器的戰略重要性，并在美國的壓力下，2019年11月，荷蘭政府阻止阿斯麥向中國運輸EUV機器。相關新聞報道將阿斯麥公司描述為中美貿易戰中的一枚棋子，但荷蘭的決定遠不止如此。在開發過程中，有許多具有戰略重要性的技術具有潛在的危險或不穩定。它們包括人工智能、自主武器系統、高超音速導彈、網絡武器、監視工具和最新一代核武器。這些技術和其他許多技術都需要最先進的芯片來開發和部署。讓這些籌碼遠離中國政府或代表其行動的機構，可以在未來幾十年里先發制人，避免出現許多最糟糕的人權和安全情況。如果缺乏先進的芯片，中國就無法進行技術研發或軍備競賽。

由此可以看出，EUV機器不僅僅是技術奇跡:它們為進步提供了重要途徑。通過推進計算機芯片技術，他們推進了科學和工程領域的前沿，促進了全球繁榮。同時它也是某些國家戰略上保持自身壟斷，維持自身技術優勢的武器。

免責聲明：文章來源網絡  以傳播知識、有益學習和研究為宗旨。 轉載僅供參考學習及傳遞有用信息，版權歸原作者所有，如侵犯權益，請聯系刪除。