一、設備簡介：

PTL 系列低溫等離子表面處理設備由真空腔體及高頻等離子電源、抽真空系統、充氣系統、自動控制系統 等部分組成。工作基本原理是在真空狀態下，等離子作用在控制和定性方法下能夠電離氣體,利用真空泵將工作 室進行抽真空達到 30-40pa 的真空度，再在高頻發生器作用下，將氣體進行電離，形成等離子體（物質第四態）， 其顯著的特點是高均勻性輝光放電，根據不同氣體發出從藍色到深紫色的彩色可見光，材料處理溫度接近室溫。 這些高度活躍微粒子和處理的表面發生作用，得到了表面親水性、拒水性、低摩擦、高度清潔、激活、蝕刻等 各種表面改性。

等離子處理優點：

1. 環保技術：等離子體作用過程是氣- 固相干式反應 ,不消耗水資源、無需添加化學藥劑,對環境無污染。

2. 廣適性：不分處理對象的基材類型,均可進行處理,如金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料都能很 好地處理；

3. 溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張力。

4. 功能強：僅涉及高分子材料淺表面（10 -1000 埃），可在保持材料自身特性的同時，賦予其一種或多種 新的功能；

5. 低成本：裝置簡單，易操作維修，可連續運行，往往幾瓶氣體就可以代替數千公斤清洗液,因此清洗成 本會大大低于濕法清洗。

6. 全過程可控工藝：所有參數可由電腦設置和數據記錄，進行工藝質量控制。

7. 處理物幾何形狀無限制：大或小，簡單或復雜，部件或紡織品，均可處理。

二、技術參數

1、設備外形尺寸: 450(W)×380(D)×330(H)mm

2、真空倉體尺寸: Φ165×220(L)mm （5L）

3、倉體結構: 高純石英腔體，外置電感耦合電極，無污染，內置石英托盤。

4、等離子發生器: 原裝 PTL 公司射頻電源，頻率 13.56MHZ，功率 0-150W 調節，全電路保護，可連續長 時間工作。（風冷）。

5、控制系統:PLC 觸摸屏全自動控制，采用歐姆龍、施耐德等進口品牌電器元件,有手動、自動兩種控制 模式，真彩臺達觸摸屏，西門子可編程控制器（PLC），美國產真空壓力傳感系統，可在線設定、修改、 監控真空壓力、處理時間、等離子功率等工藝參數，并具有故障報警、工藝存儲等多種功能。在自動模式 下設置各項工藝參數，即可一鍵啟動，連續重復運行。手動模式用于實驗工藝以及設備維護維修。

三、工藝流程：

3.1 處理工藝流程 裝入工件→抽真空→沖入反應氣體→等離子放電處理→回沖氣體→取出工件

3.2 工藝控制：

3.2.1 處理時間控制： 1 秒～120 分鐘連續可調。

3.2.2 等離子放電壓力：30～80Pa

3.2.3 功率設定范圍：0～150W 連續可調

3.2.4 流量設定范圍： 氣體 1（0～300ml/min） 氣體 2（0～500ml/min）

3.3 PLC 軟件功能（操控界面）

3.3.1 主畫面：實時監視并顯示運行狀態及數據，等離子電源功率、閥門開關、真空壓力、運行時間等。

3.3.2 參數設置：可設定、修改工藝參數及步驟

3.3.3 工作狀態：可在線查看真空壓力、等離子功率等數據及狀態

3.3.4 故障報警：多種故障檢測、報警及互鎖保護。

四、真空泵：VRD-8

五、場地要求

電 源：兩相三線，獨立接地，接地電阻≤2Ω。應使用截面積 3mm2以上的接地線將設備接至 PE。

真空泵排放氣管：軟管，管徑（內徑）建議將排氣管接至室外

場地溫度：≤40℃

相對濕度：RH（35-85）%