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• 中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制出實(shí)用深紫外光刻機(jī)為基臺（已經(jīng)銷售550臺，其中出口30多臺），配有高精度對準(zhǔn)模塊、真空曝光模式、雙面曝光模式、納米壓印模式、接近式模式、數(shù)字設(shè)定曝光間隙等諸多功能供...2017-07-28 16:03:16