• 光刻機是光刻工藝的核心設備賴進口，且國產化進程整體較慢。?隨著中國大陸代工廠的不斷擴建，未來對于國產光刻機的需求不斷提升，而當前國內與國外頂尖光刻機制程仍存在較大差距，國產光刻...2022-11-22 08:50:23
• 投影式光刻機 Projection Photoetching Machines投影式光刻機一般采用步進-掃描式曝光。光源并不是一次把整個掩模上的圖形投影在晶圓上，曝光系統(tǒng)通過一個狹縫式曝光帶（slit）照射在掩模上，如1（a）所...2017-12-29 09:04:54
• 中國大陸將迎來首臺EUV光刻機第二束光，系統(tǒng)光路設計上改動比較小，光刻機工程化應用相對容易，有希望使國產光刻機在高端領域彎道超車、有所突破。...2017-10-25 09:28:40
• URE-2000/25型光刻機操作說明以及特性介紹URE-2000/25?型深度光刻機，?是在?URE-2000A?和?URE-2000B?基礎上開發(fā)?成功的，其主要特點是：?燈源采用?200W?交流...2017-10-24 11:32:15
• 面對壟斷，自主研發(fā)高端光刻機實現國產化替代勢在必行更多汶顥微流控技術公司實驗室儀器設備（www.zuzumean.com）的國產光刻機及進口光刻膠等產品耗材。?...2017-08-10 14:36:55
• 28nm節(jié)點浸沒式光刻機核心部件之一浸液系統(tǒng)入駐杭州青山湖科技城什么是光刻機？高端光刻機是集成電路配備中技能難度最高的關鍵設備，因此也被稱為人類技能開展的制高點和制作工業(yè)“皇冠上的明珠”。國外品牌主要以荷蘭ASML...2017-08-08 16:38:10
• 中國科學院光電技術研究所研制出實用深紫外光刻機工工藝中，光刻機所采用的波段是決定光刻分辨力的重要因素之一。長期以來，國產光刻機均采用紫外波段（350nm至450nm），分辨力只能做到1μm以上。而...2017-07-28 16:03:16
• 光刻機的曝光模式積缺陷；上個世紀七十年代的工業(yè)水準，已經逐漸被接近式曝光方式所淘汰了，國產光刻機均為接觸式曝光，國產光刻機的開發(fā)機構無法提供工藝要求更高的非接觸式曝光...2016-12-08 14:34:46
• 光刻機的簡單介紹等。對準系統(tǒng)制造高精度的對準系統(tǒng)需要具有近乎完美的精密機械工藝，這也是國產光刻機望其項背的技術難點之一，許多美國德國品牌光刻機具有特殊專利的機械工藝設...2016-04-18 11:54:16
• 光刻機的“曝光模式”分類積缺陷；上個世紀七十年代的工業(yè)水準，已經逐漸被接近式曝光方式所淘汰了，國產光刻機均為接觸式曝光，目前國產光刻機的開發(fā)機構無法提供工藝要求更高的非接觸式...2015-02-13 15:49:15