• PDMS濕法刻蝕與軟刻蝕的區別體材料，廣泛應用于微流控芯片、生物傳感器和柔性電子等領域。在這些應用中，刻蝕工藝是實現微結構加工的關鍵步驟。濕法刻蝕和軟刻蝕是兩種常用的刻蝕方法，它...2024-09-20 09:42:54
• PDMS軟刻蝕技術的應用PDMS（聚二甲基硅氧烷）軟刻蝕技術是一種在高分子科學中廣泛應用的微制造技術。它能夠簡捷有效、高精度地制備出眾多材料的微結構，且技術成本低廉，不需要昂貴的設備和苛刻的環境，具有...2024-09-19 09:34:25
• 微流控芯片加工中的PDMS軟刻蝕技術和聚合物成型介紹同類型的芯片各有不同的加工方法。本文主要介紹PDMS芯片加工的軟光刻/軟刻蝕技術（soft lithography technique）和聚合物成型...2024-08-28 09:11:56
• 濕法刻蝕工藝干法刻蝕（Dry Etching）是使用氣體刻蝕介質。 常用的干法刻蝕方法包括物理刻蝕（如離子束刻蝕）和化學氣相刻蝕（如等離子體刻蝕）等。與干法蝕刻相比...2024-07-31 09:09:43
• 半導體光刻刻蝕過程和工藝高于前烘溫度100-130℃，時間2分鐘。蒸發光刻膠中所有有機溶劑、提高刻蝕和注入的抵抗力、提高光刻膠和表面的粘附性、聚合和使得光刻膠更加穩定、光刻...2024-06-19 09:51:25
• 工藝參數選擇對石英玻璃刻蝕性能的研究EMS制備中占據了重要的作用。Nakanishi等采用46%的氫氟酸作為刻蝕劑制備出玻璃材質的電泳芯片。玻璃材料由于其自身特性，它沒有電荷的自由移動...2023-12-26 10:28:25
• 光刻技術圖形轉移工藝三：芯片刻蝕光刻和刻蝕是兩個不同的加工工藝，但因為這兩個工藝只有連續進行，才能完成真正意義上的圖形轉移，而且在工藝線上，這兩個工藝經常是放在同一工序，因此，有時也將這...2018-06-07 08:49:02
• 微流控芯片加工：PDMS軟刻蝕技術和聚合物成型介紹同類型的芯片各有不同的加工方法。本文主要介紹PDMS芯片加工的軟光刻/軟刻蝕技術（soft lithography technique）和聚合物成型...2017-12-28 09:32:10
• 基于電化學刻蝕與微電鑄工藝微電鑄工藝中鑄層與基底結合力差的問題，在光刻工藝的基礎上，采用掩膜電化學刻蝕和微電鑄相結合的方法，制作出了結合力較好的鎳基雙十字微流控芯片模具。針對...2017-10-10 08:38:48
• 刻蝕工藝：干法刻蝕和濕法刻蝕刻蝕工藝刻蝕，是指用化學或物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過程。刻蝕的基本目的，是在涂膠(或有掩膜)的硅片上正確的復制出掩膜圖形。 ???...2017-08-23 16:26:42