微流控技術的核心思想，是以最小的消耗來獲得最大的產出，僅需極少的樣本采集便可獲得所需的各項信息。具體來講，微流控追求的是最小的反應體系(皮升、納升級別)，保持最低的試劑和樣品消耗，并行最多的獨立反應，同時保持反應體系的封閉性，減少污染，等等。微流體作為微流控技術操控的對象，可以廣泛涵蓋血液，尿液，唾液等各種生物樣本，因此在體外診斷(IVD)領域逐步發展成為面向即時診斷(POCT)的關鍵技術。現在微流控行業對芯片的生產制作技術主要有3種：

(1)LIGA技術

LIGA是德文Lithographie，Galvanoformung，Abformung三個字的字頭縮寫。LIGA技術是由光刻、電鑄和塑鑄三個環節組成。

LIGA技術是用紫外光光源來代替LIGA技術中的同步輻射X光深層光刻，然后進行后續的微電鑄和微復制工藝。它不需要同步輻射X光光刻和特制的X光掩膜板，有利于實現微機械器件的大批量生產。根據紫外光深層光刻的工藝路線的不同，準LIGA技術又可分為多層光刻—LIGA、硅模深刻蝕—LIGA和SU-8深層光刻—LIGA三類。

(2)激光燒蝕法

激光燒蝕法是一種非接觸式的微細加工技術。它可直接根據計算機CAD的數據在金屬、塑料、陶瓷等材料上加工復雜的微結構，已應用于微模和微通道的加工。 這種方法對技術設備要求較高，步驟簡便，而且不需超凈環境，精度高。但由于紫外激光能量大，有一定的危險，需在標準激光實驗室中進行操作，使用安全保護裝備和防護眼鏡。

(3)軟光刻

軟光刻(soft lithography)是相對于微制造領域中占據主導地位的光刻而言的微圖形轉移和微制造的新方法，以自組裝單分子層、彈性印章和高聚物模塑技術為基礎的微細加工新技術。它能制造復雜的三維結構及不規則曲面;能應用于生物高分子、膠體、玻璃、陶瓷等多種材料;沒有相關散射帶來的精度限制，可以達到30 nm ~ 1 μm級的微小尺寸; 因此軟光刻是一種便宜、方便，適于實驗室使用的技術。

軟光刻技術的核心是彈性模印章，可通過光刻蝕和模塑的方法制得。PDMS是軟光刻中最常用的彈性模印章。軟光刻的關鍵技術主要包括微接觸印刷、再鑄模、微傳遞成模、毛細管成模、溶劑輔助成模等。

軟光刻技術還存在著一些缺陷，如PDMS固化后有1%的收縮變形，而且在甲苯和乙烷的作用下，深寬比將出現一定的膨脹;PDMS的彈性和熱膨脹性使其很難獲得高的準確性，也使軟光刻在多層面的微加工中受到限制;由于彈性模太軟，無法獲得大的深寬比，太大或太小的寬深比都將導致微結構的變形或扭曲。

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