在電子工業清洗大致可分為兩種：濕法清洗和干法清洗。濕法清洗已經在電子工業生產中廣泛應用，但是濕法清洗過程中所產生的污染和有毒化學劑對環境的危害成為令人困擾的難題。相對而言，干法清洗在這方面有很大的優勢，其中特別以等離子清洗技術為例已逐步在半導體、電子組裝、精密機械、醫療等行業廣泛應用。

濕法清洗主要是依靠物理和化學溶劑的作用，如在化學性劑需吸附、浸透、溶解、散離作用下輔以超聲波、噴淋、旋轉、沸騰、蒸汽搖動等物理作用下去污。與濕法清洗不同等離子體清洗機的機理是依靠處于“等離子態”的物質的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。從目前各類清洗方法中看，可能等離子體清洗也是所有清洗方法中最為徹底的剝離式清洗。

等離子清洗技術和濕法清洗比較：
（1）濕法化學清洗時間和化學溶劑對工藝靈敏，等離子清洗工藝過程更容易控制。
　　（2）去除油污及氧化物等工藝時，濕法化學清洗需要進一步去除及處理或需要多次清洗，而等離子清洗只要一次，基本無殘留物。

（3）濕法化學清洗后大量的廢物還要需要進一步處理，這樣也耗費更多的時間和人力，但是等離子清洗反應副產物為氣體，在通過真空系統及中和器可直接排放到大氣中。
　　（4）關于毒性：濕法化學清洗溶劑和酸有相當高的毒性，而等離子清洗反應所需氣體大多無毒，工作人員使用等離子清洗很久也不會對身體產生危害。

等離子清洗技術較常規化學清洗具有若干優勢，等離子由于使用電能催化化學反應而不是熱能，因此提供了一個低溫環境。等離子排除了由濕式化學清洗帶來的危險，并且與其他清洗相比清洗后無廢液。如今等離子清洗技術應用的領域越來越廣泛，發展前景十分廣闊，同時為各行各業解決了許多難題。

等離子清洗機清洗原理

等離子清洗機也叫等離子表面處理儀，利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團、激發態的核素（亞穩態）、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔等目的。

　　等離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的"活性"組分包括：離子、電子、活性基團、激發態的核素（亞穩態）、光子等。

　　等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等目的。

　　等離子清洗機原理：

　　等離子體是物質的一種存在狀態，通常物質以固態、液態、氣態三種狀態存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態存在，如地球大氣中電離層中的物質。

使用等離子清洗機的好處

 等離子清洗機由真空腔體以及高頻率的等離子電源、抽真空系統、充氣系統、自動控制系統等等部分組成。被廣泛的使用在各種的清新處理行業當中。

1、環保

　　等離子體起到作用的過程時氣到固體的相干式的，過程中不消耗水資源，也不需要添加化學藥劑，對于周圍的環境沒有污染。

2、廣泛性

　　使用等離子清洗機一般是不分處理對象的基本材料類型，都可以進行處理，對于金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，例如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺甚至是聚四氟乙烯等等都可以得到很好的處理，并且可以實現整體以及局部以及負責的結構進行清洗處理。

3、功能性強

　　等離子清洗機不僅涉及道路高分子材料淺表面，可以在保持材料自身特性的同時，有賦予了一種或者多種的新功能。

4、溫度低

　　等離子清洗機接近常溫，特別適合用于高分子材料，比使用電暈已經火焰的方法有很長的保存時間和比較的表面處理張力。

5、成本低

　　等離子處理裝置簡單，易于操作和維修，可以連續的運行，往往幾瓶的等離子氣體就可以代替數千公斤的清洗液，因此清洗的成本會大大的降低與濕法清洗。

6、全稱可控工藝

　　等離子清洗機幾乎所有的參數都可以由電腦設置和數據記錄，進行質量控制。

7、處理物的幾何形狀無限制

　　使用等等離子清洗機處理的物體，其或大或小，形狀簡單或者復雜，部件或紡織品都可以進行處理。